硅晶片超声波全自动清洗机厂家-科伟达超声
硅晶片超声波全自动清洗机应用在半导体行业：
超声波清洗是有效的方法之一，即使在大规模生产环境中也可用于清洗各种零件。当将超声波能量引入清洗溶液中时，会发生气穴现象，这是超声波清洗的基础。超声波能量导致低压相和高压相的交替模式。在低压阶段，数分钟内会形成气泡或真空腔。
在随后的高压阶段，气泡剧烈爆裂，这称为空化。与简单的浸泡或搅动浸泡相比，气蚀提供了强烈的擦洗作用，可导致无与伦比的清洁速度和一致性。此外，气泡足够小，甚至可以穿透微观缝隙，彻底，始终如一地清洁它们。
超声波全自动清洗机如何去除硅片上的污染物？
在硅晶片上形成电子导体的薄膜和微观结构可能非常脆弱。传统的清洁方法使用酸和其他化学物质去除污染物，同时使硅片不受影响。较低的千赫兹频率范围内的常规超声清洗会产生较大的空化气泡，其清洗能量可能会损坏硅晶片。
在950kHz至3MHz的范围内进行超音速清洁会产生更小，更少能量的气泡。当这些气泡破裂时，微小的喷射流撞击硅晶片的表面并去除污染物。喷射能量足以去除表面的污染物和颗粒，但太弱而不能损坏硅结构和薄膜。数百万个微小的气泡产生强烈而温和的清洁作用，从硅片上清除污染物。
在大多数应用中，兆声波清洗比使用化学药品清洗更有效。使用兆超音波清洁系统清洁的晶圆可以清洁的颗粒更少，从而减少了由于半导体组件缺陷而造成的浪费。
硅晶片超声波全自动清洗机功能：
1.高纯水、高洁净度清洗。·喷洗，超声波清洗工艺。
2.80KHz、120KHz高频精密清洗。
3.工控机、PLC全自动控制系统配合机械臂，运行更平稳。
4.设置摇动机构，清洗洁净度均匀。·迷宫式加热装置，加热速度快。
5.耐高温，高效过滤器烘干系统，工件干净无水迹。
6.全不锈钢封闭及排气系统，环境优良。
使用硅晶片超声波全自动清洗机的优势：
使用超声波清洗机而不是刺激性化学剂清洁硅片可以在成本，产品质量和环境保护方面产生优势。
这些优势包括：
1.腐蚀性化学药品价格昂贵，通常只能使用一次。清洁系统除了去离子水和可能的中性溶剂或清洁剂外，无需任何耗材。该系统的运行成本低。
2.除了购买成本之外，化学药品的存储和处理也很昂贵。清洁器没有相应的费用。
3.化学清洗系统需要广泛的安全措施来保护工人。清洁器是完全安全的，工人在执行清洁操作时没有危险。
4.化学药品的中和成本很高，而处理化学废物的成本也很高。即使经过处理，它们也可能危害环境。清洁剂对环境没有不利影响。
5.与化学浴相比，超声波清洗机通常可以清除更多的颗粒并产生更清洁的晶片。更好的清洁效果可为半导体制造工艺提供更可靠的结果。
使用超声波清洗机清洁硅晶圆的主要好处：
使用超音速清洗系统代替硅片的化学浴清洗的好处包括更低的运营成本，更安全的工作环境和更高的产品质量。尽管诸如蚀刻硅片之类的处理步骤需要腐蚀性化学物质，但尽可能减少化学物质的使用可以降低化学物质和化学废物的购买，存储，处理和处置的成本。同时，更清洁的晶圆可减少次品的产生，提高产量并提高输出质量，从而进一步降低成本。设备生产率可以随着更高的利润率而提高。
科伟达可以利用其在超声波清洗领域的丰富经验为特定的半导体清洁应用推荐产品，公司生产从最低频率到最高频率的高质量超声波和超音速设备。可以评估客户需求，提出建议并确保相应的设备为客户的半导体制造业务带来预期的收益。
